K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection CPL поляризаційний фільтр 49 мм

6942052515795 KF012473

Відкрийте для себе новий вимір фотографії з фільтром CPL (фільтр кругової поляризації) K&F Concept Ultra-low Reflection Nano-X. Це незамінний елемент майже кожного фотографічного набору, що дозволяє точно контролювати освітлення та створювати фотографії, повні деталей і ідеально відтворених кольорів. Він призначений для прямого монтажу на лінзах діаметром 49 мм.

Фільтр Ultra-low Reflection Nano-X виготовлений з висококласної японської оптики AGC. скло , на яке було нанесено багатошарове покриття MRC (Multi Resistant Coating), збагачене титаном. Це забезпечує захист лінзи від подряпин, підвищену стійкість до води та жиру, ефективне зменшення відблисків ( ≤ 0,1%) і високий коефіцієнт пропускання світла 45%.

Завдяки технології, яка використовується у виробництві, фільтр усуває до 99,9% світлових променів із певною поляризацією. На практиці це дозволяє зафіксувати набагато більше деталей, невидимих ​​для людського ока. Його поворотна конструкція, що складається з двох кілець, прикручених одне до одного, дозволяє швидко й точно змінювати систему поляризатора, таким чином ефективно відсікаючи хвилі вибраної довжини.

Кріплення рама виготовлена ​​зі сплаву магнію та алюмінію. Подвійне різьблення дозволяє одночасно використовувати додаткові аксесуари, такі як інші фільтри або сонцезахисні козирки. Щільна накатка полегшує використання фільтра, його монтаж і демонтаж. Оправа має низький профіль (5,3 мм), що дозволяє поєднувати фільтр з ширококутними об'єктивами.

Характеристики

• Поляризаційний фільтр MRC CPL з багатьма покриттями
• Нанопокриття з антивідблиском
• Титанове покриття
• Усунення поляризованих хвиль до 99,9%
• Пропускна здатність світла: ≥ 45%
• Ефективне зменшення відблисків
• Японське оптичне скло AGC
• Алюмінієво-магнієва рама
• li>
• Стійкість до смуг і жирних плям
• Легке очищення
• Подвійне різьблення
• Товщина: 5,3 мм
• Діаметр: 49 мм