K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection CPL поляризаційний фільтр 72 мм

5904647822009 KF012479

Відкрийте для себе новий вимір фотографії з CPL (фільтром кругової поляризації) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection. Це незамінний елемент кожного фотографічного набору, забезпечуючи точний контроль над освітленням і дозволяючи створювати фотографії, повні деталей і привабливо насичених природних кольорів. Фільтр призначений для встановлення на лінзах діаметром 72 мм зі стандартною різьбою.

Фільтр виготовлено з використанням японського оптичного скла AGC, покриті численними нанопокриттямиі спеціальним шаром титану. Технологія MRC (Multi Resistant Coating) збільшує довговічність лінзи, захищає її від подряпин і відколів, перешкоджає осіданню водних і масляних забруднень, зменшує відблиски (≤ 0,1% ) і забезпечує світлопроникність 45%.

Фільтр усуває до99,9% світлових променів із певною поляризацією. Використання фільтра CPL дозволяє, серед іншого: зменшення відблисків на воді, склі та неметалевих поверхнях. Його поворотна конструкція дозволяє швидко й точно змінювати положення поляризаторів і таким чином майже миттєво відсікати потік хвиль вибраної довжини та частоти.

рама для кріплення фільтра виготовлена ​​зі сплаву магнію та алюмінію. Подвійне різьблення дозволяє одночасно використовувати додаткові аксесуари, такі як інші фільтри або сонцезахисні козирки. Щільна накатка полегшує монтаж і демонтаж. Оправа має низький профіль (5,3 мм), завдяки чому фільтр добре працює з ширококутними об’єктивами.

Характеристики

• Поляризаційний фільтр MRC CPL з багатьма покриттями
• Нанопокриття з антивідблиском
• Титанове покриття
• Усунення поляризованих хвиль до 99,9%
• Пропускна здатність світла: ≥ 45%
• Ефективне зменшення відблисків
• Японське оптичне скло AGC
• Алюмінієво-магнієва рама
• li>
• Стійкість до смуг і жирних плям
• Легке очищення
• Подвійне різьблення
• Товщина: 5,3 мм
• Діаметр: 72 мм