K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 67mm CPL поляризаційний фільтр

5904647821989 KF012478

Багатошаровий поляризаційний фільтр MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection — це високоякісний аксесуар, який є невід’ємним елементом спорядження кожного фотографа. Він забезпечує точний контроль над світлом, зменшуючи небажані відблиски, підвищуючи насиченість кольорів і виявляючи деталі, невидимі для людського ока. Призначений для кріплення на лінзах діаметром 67 мм.

Для виготовлення фільтрів серії Ultra-low Reflection використовувалося висококласне японське оптичне скло AGC . Лінзи покриті численними нанопокриттями, збагаченими титаном. Технологія MRC (Multi Resistant Coating) захищає їх від подряпин і відколів, підвищує стійкість до води та жиру, перешкоджає осіданню бруду та ефективно зменшує відбиття (≤ 0,1%) і забезпечує пропускання світла на поверхні рівень45%.

Фільтр усуває до 99,9% світлових променів із певною поляризацією. Це дозволяє, серед іншого, усунення відблисків на воді, склі та інших неметалевих поверхнях. Фільтр, що складається з двох кілець, вільно обертається, що дозволяє йому відсікати лише певні світлові хвилі.

Рамка фільтра виготовлена ​​з легкого, але міцного сплаву магнію та алюміній. Має подвійну різьбу, що дозволяє використовувати додаткові аксесуари одночасно. Профільовані виїмки полегшують монтаж і демонтаж фільтра. Оправа має низький профіль (5,3 мм), що добре поєднується також із ширококутними об’єктивами.

Характеристики

• Поляризаційний фільтр MRC CPL з багатьма покриттями
• Нанопокриття з антивідблиском
• Титанове покриття
• Усунення поляризованих хвиль до 99,9%
• Пропускна здатність світла: ≥ 45%
• Ефективне зменшення відблисків
• Японське оптичне скло AGC
• Алюмінієво-магнієва рама
• li>
• Стійкість до смуг і жирних плям
• Легке очищення
• Подвійне різьблення
• Товщина: 5,3 мм
• Діаметр: 67 мм