K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection 62mm CPL поляризаційний фільтр

6942052515832 KF012477

K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection – це інноваційний багатошаровий поляризаційний фільтр, створений для найвибагливіших фотографів. Це основний і часто незамінний елемент професійного фотографічного набору. Це дозволяє контролювати освітлення, захоплювати більше деталей на фотографіях, виділяти насичені кольори та покращувати контраст. Призначений для встановлення на лінзи зі стандартною різьбою діаметром 62 мм.

Фільтри серії Ultra-low Reflection виготовлені з використанням висококласного японського оптичного скла AGC, покритий багатошаровим покриттям MRC (Multi Resistant Coating) з домішкою титану. Це захищає лінзи від подряпин і відколів, а також підвищує стійкість до відкладення забруднювачів від води та масла. Нанопокриття ефективно зменшують відбиття (≤ 0,1%) і забезпечують пропускання світла 45%.

Інноваційна технологія виробництва дозволяє фільтрам усувати до 99,9% світлових променів із певною поляризацією, таким чином забезпечуючи ефективне зменшення відблисків, що виникають на склі, воді та різних типах неметалевих поверхонь. Обертова конструкція фільтрів забезпечує швидку та легку зміну відносного положення поляризаторів і, таким чином, відсікання хвиль лише певної довжини.

Скляні лінзи є вбудований у міцну раму зі сплаву магнію та алюмінію. Щільна накатка полегшує встановлення та зняття фільтра, а подвійна різьба полегшує одночасне використання інших аксесуарів. Оправа фільтра має товщину 5,3 мм, тому поляризатор також можна використовувати з ширококутними об’єктивами.

Характеристики

• Поляризаційний фільтр MRC CPL з багатьма покриттями
• Нанопокриття з антивідблиском
• Титанове покриття
• Усунення поляризованих хвиль до 99,9%
• Пропускна здатність світла: ≥ 45%
• Ефективне зменшення відблисків
• Японське оптичне скло AGC
• Алюмінієво-магнієва рама
• li>
• Стійкість до смуг і жирних плям
• Легке очищення
• Подвійне різьблення
• Товщина: 5,3 мм
• Діаметр: 62 мм