K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection CPL поляризаційний фільтр 55 мм

6942052515818 KF012475

Виведіть фотографію на новий рівень із CPL (фільтром кругової поляризації) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection. Розроблений для встановлення на об’єктиви діаметром 55 мм, він є незамінним елементом професійного фотографічного набору. Він забезпечує точний контроль над світлом і дозволяє створювати фотографії, повні деталей і природних насичених кольорів.

Фільтр виготовлено з високоякісного японського оптичного скла AGC, яке було покриті численними в процесі виробництва b>нанопокриттями, збагаченими спеціальним титановим шаром. Технологія MRC (Multi Resistant Coating) захищає лінзу від подряпин і відколів, підвищує водо- та жиростійкість, зменшує відбиття (≤ 0,1%) і забезпечує світлопроникність 45%.

Фільтр усуває до 99,9% світлових променів із певною поляризацією. Його використання дозволяє, серед іншого: зменшення відблисків на воді, склі або неметалевих поверхнях. Обертова конструкція, що складається з двох кілець, дозволяє швидко й точно змінювати положення поляризаторів і, отже, майже миттєво відсікати хвилі вибраної довжини хвилі.

Монтажна рамка фільтра виготовлена ​​з алюміній і магній. Його подвійна різьба дозволяє використовувати додаткові аксесуари, такі як інші фільтри або сонцезахисні козирки. Щільна накатка полегшує обертання фільтра, монтаж і демонтаж. Оправа має низький профіль (5,3 мм), тому добре працює з ширококутними об’єктивами.

Характеристики

• Поляризаційний фільтр MRC CPL з багатьма покриттями
• Нанопокриття з антивідблиском
• Титанове покриття
• Усунення поляризованих хвиль до 99,9%
• Пропускна здатність світла: ≥ 45%
• Ефективне зменшення відблисків
• Японське оптичне скло AGC
• Алюмінієво-магнієва рама
• li>
• Стійкість до смуг і жирних плям
• Легке очищення
• Подвійне різьблення
• Товщина: 5,3 мм
• Діаметр: 55 мм