K&F CONCEPT 58MM HMC UV NANO-K ЗАХИСНИЙ УФ-ФІЛЬТР
- Час доставки: 7-10 днів
- Стан товару: новий
- Доступна кількість: 1
Оплачивая «K&F CONCEPT 58MM HMC UV NANO-K ЗАХИСНИЙ УФ-ФІЛЬТР», вы можете быть уверены, что данное изделие из каталога «Кисти, ручки, чистящие средства» будет доставлено из Польши и проверено на целостность. В цене товара, указанной на сайте, учтена доставка из Польши. Внимание!!! Товары для Евросоюза, согласно законодательству стран Евросоюза, могут отличаться упаковкой или наполнением.
УФ-фільтр K&F Concept HMC Nano-K.
Характеристики продукту:
- Матеріал лінз найкраще японське оптичне скло з 18 шарами антиблікового покриття, яке може зменшити світло, відбите на поверхні фільтра
- Порівняно зі звичайним УФ-випромінюванням, поверхневе покриття цієї лінзи гарантує, що фільтр не буде пліснявіє та туманить під час тривалого використання
- Рамка виготовлена з авіаційного алюмінію, а ультратонкий дизайн забезпечує відсутність віньєтування на широкому кінці; Поверхня пройшла піскоструминну обробку, що ефективно запобігає проникненню розсіяного світла.
- Оправа має трапецієподібну конструкцію з ЧПК, яка збільшує тертя під час обертання та може встановлювати/знімати лінзу будь-коли та будь-де.
- Діаметр: 58 мм
Використовується японське оптичне скло, яке захищає об’єктив від бруду, подряпин, відбитків пальців або випадкового пошкодження. Надтонка та легка алюмінієва оправа максимально зменшує вплив світла та ефективно уникає темних кутів ширококутної лінзи. 18 багатошарових покриттів ефективно відновлюють якість зображення, не впливаючи негативно на колір фотографій. Цей УФ-фільтр зменшує розмитість і покращує контраст у відео та цифрових зображеннях, мінімізуючи кількість ультрафіолетового (УФ) світла та допомагаючи усунути блакитний відтінок на зображеннях.