Поляризационный фильтр CPL K&F Concept Nano-X со сверхнизким отражением, 67 мм

5904647821989 KF012478

Поляризационный фильтр с многослойным покрытием MRC CPL K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection – это высококачественный аксессуар, который является незаменимым элементом оборудования каждого фотографа. Он обеспечивает точный контроль над светом, уменьшая нежелательные отражения, повышая насыщенность цвета и выделяя детали, невидимые человеческому глазу. Предназначены для установки на объективы диаметром 67 мм.

При изготовлении фильтров серии Ultra-low Reflection использовано высококачественное японское оптическое стекло AGC. . Линзы покрыты многочисленными нанопокрытиями, обогащенными титаном. Технология MRC (Multi Resistant Coating) защищает их от царапин и сколов, повышает устойчивость к воде и жиру, препятствует осаждению грязи, эффективно снижает отражения (≤ 0,1%) и обеспечивает светопропускание при уровень45%.

Фильтр устраняет до 99,9 % световых лучей с определенной поляризацией. Это позволяет, среди прочего, устранить отражения, возникающие на воде, стекле или других неметаллических поверхностях. Фильтр, состоящий из двух колец, свободно вращается, что позволяет ему отсекать только определенные световые волны.

Оправа фильтра изготовлена ​​из легкого, но прочного сплава магния и алюминий. Он имеет двойную резьбу, что позволяет одновременно использовать дополнительные аксессуары. Профилированные выемки облегчают сборку и разборку фильтра. Оправа имеет низкий профиль (5,3 мм), что обеспечивает хорошее взаимодействие с широкоугольными объективами.

Особенности

• Поляризационный фильтр с многослойным покрытием MRC CPL
• Антибликовое нанопокрытие
• Титановое покрытие
• Устранение поляризованных волн до 99,9%
• Пропускание света: ≥ 45%
• Эффективное уменьшение отражений
• Японское оптическое стекло AGC
• Алюминий-магниевый каркас.
• li>
• Устойчивость к разводам и жирным пятнам.
• Легкая чистка.
• Двойная резьба.
• Толщина: 5,3 мм.
• Диаметр: 67 мм.