Поляризационный фильтр K&F Concept Nano-X со сверхнизким отражением CPL, 55 мм

6942052515818 KF012475

Поднимите фотографию на новый уровень с помощью поляризационного фильтра CPL (циркулярный поляризационный фильтр) K&F Concept Nano-X Ultra-low Reflection. Предназначен для установки на объективы диаметром 55 мм и является незаменимым элементом профессионального фотографического набора. Он обеспечивает точный контроль над светом и позволяет создавать фотографии полные деталей и естественных, насыщенных цветов.

Фильтр изготовлен из высококачественного японского оптического стекла AGC, которое было в процессе производства покрыты многочисленными нанопокрытиями, обогащенными специальным слоем титана. Технология MRC (Multi Resistant Coating) защищает линзу от царапин и сколов, повышает водо- и жиростойкость, уменьшает отражения (≤ 0,1%) и обеспечивает светопропускание 45%.

Фильтр удаляет до 99,9% световых лучей с определенной поляризацией. Его использование позволяет, среди прочего: уменьшение отражений от воды, стекла или неметаллических поверхностей. Вращающаяся конструкция, состоящая из двух колец, позволяет быстро и точно менять положение поляризаторов и, таким образом, практически мгновенно отсекать волны выбранной длины волны.

Рамка крепления фильтра изготовлена ​​из алюминий и магний. Его двойная резьба позволяет использовать дополнительные аксессуары, например, другие фильтры или солнцезащитные козырьки. Плотная накатка облегчает вращение, сборку и разборку фильтра. Оправа имеет низкий профиль (5,3 мм), поэтому хорошо работает с широкоугольными объективами.

Особенности

• Поляризационный фильтр с многослойным покрытием MRC CPL
• Антибликовое нанопокрытие
• Титановое покрытие
• Устранение поляризованных волн до 99,9%
• Пропускание света: ≥ 45%
• Эффективное уменьшение отражений
• Японское оптическое стекло AGC
• Алюминиево-магниевый каркас.
• li>
• Устойчивость к разводам и жирным пятнам.
• Легкая чистка.
• Двойная резьба.
• Толщина: 5,3 мм.
• Диаметр: 55 мм.